真空镀膜-真空镀膜加工厂家-东莞市仁睿电子科技
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不影响产量的简化选择方案与PVD不同，ALD技术无需旋转基底材料。这意味着用更简单的方法就能达到更大的产量。Beneq P400A实现了高均匀度、批量生产和高沉积率的的优化组合。Beneq ALD工艺技术满足了在复杂3D结构表面均匀沉积薄膜的高保形性。这为任意形状的光学器件、球型透镜、光栅等应用提供了成熟可靠的镀膜方案。
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等离子溅射包括一系列已知技术，包括先进等离子溅射和磁控溅射。一般概念来源于等离子体的产生。等离子体中的离子随后加速进入源材料，撞击出松散的高能源离子，然后溅射到目标光学元件上。尽管每种等离子溅射都有其的特性、优点和缺点，但由于它们有共同的操作概念，因此这些技术被组合在一起。与本部分讨论的其他镀膜技术相比，这一组中的差异要小得多。
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